氮化硼陶瓷用于物理气相沉积了解一下

　　物理气相沉积是指用于各种材料的表面工程的多种真空薄膜涂层方法。PVD涂层方法采用多种方法之一，将目标材料生成并沉积到基板表面，包括溅射沉积，PVD涂层方法通常用于光电子器件的制造、汽车和航空航天的精*部件等。今天我们来了解一下氮化硼陶瓷的相关知识。
　　溅射是一个独特的过程，通过持续的等离子轰击，粒子被强行从目标材料中喷出。氮化硼陶瓷广泛用于将溅射室中的等离子弧约束到目标材料上，并防止工艺室中整体部件的侵蚀。
　　圣戈班氮化硼提供几个Combat?可加工陶瓷的型号可用于PVD组件。AX05、HP 和 ZSBN 级通常用于制造用于 PVD 等离子室的电弧护罩和导轨、目标框架、屏蔽和衬垫。
　　氮化硼陶瓷用于霍尔推进器
　　霍尔效应推进器使用等离子体作为轨道卫星和深空探测器的推进方法。这种等离子体是由推进剂气体的电离产生的，推进剂气体通过高性能陶瓷通道内的强烈径向磁场。应用的电场轴向加速等离子体并通过放电通道，达到每小时数万英里的潜在出口速度。这种先进技术的挑战是陶瓷放电通道屈服于过早的等离子体侵蚀。
　　氮化硼陶瓷已成功用于延长霍尔效应等离子推进器的使用寿命，同时不限制其电离效率，也不限制其推进能力。