氮化硼陶瓷用于等离子腔体

　　氮化硼陶瓷通过热压制成。这种工艺利用高达2000°C (3632°F)的温度和高压有道氮化硼粉末烧结成为一个大的紧实块体，称作坯料。这些氮化硼陶瓷坯可以轻易地被加工成型并且精*加工成复杂地形状和光滑地表面。不用青料烧结，研磨，抛光地易加工性使得许多高*工程领域的原型制作，设计更改和认证周期都更加容易和快速。
　　除了许多高*氮化硼陶瓷所共有的热机械和电气特性外，BN 在等离子体环境中的独特之处在于，即使在存在强电磁场的情况下，它还是对溅射的抵抗力和低二次离子生成倾向。抗溅射有助于延长组件的使用寿命，而低二次离子生成有助于保持等离子体环境的完整性。
　　以上便是今天的全部内容了，它已被作为高*绝缘体用于各种薄膜涂层工艺，如等离子体增强的物理气相沉积 （PVD）。氮化硼陶瓷还用于提高轨道卫星上霍尔效应推进器的性能和服务长度。